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科學研究組 > 奈米科學小組

小組成員名單

將系統微小化和功能化是近代科技發展的一個重心，透過調變系統尺寸和其介面特性，一個人工結構可以擁有與其組成物質截然不同的物理化學性質。由於物質的物理化學特徵與其電子結構有直接的關係，本小組的成員利用同步輻射能譜顯微術、光電子能譜術，和X光吸收能譜術來探討包含磁性多層膜、有機半導體分子、自組裝分子、碳60、石墨烯，以及有機二極體（OLED）等多項材料在不同尺寸、結構、表面，和大氣壓力時之電子結構及新穎現象。

中文名字研究領域
王嘉興*
  • 室壓X光光電子能譜
  • 二氧化碳氫化反應
  • 表面科學
  • 奈米金屬顆粒合成
  • 析氧反應電催化劑開發
許瑤真
  • 表面及介面分析
  • 有機半導體光電材料科學
  • 奈米與先進材料分析
  • 同步輻射電子光譜與顯微術應用
皮敦文
  • ALD and MBE high k oxides on (In)GaAs and Ge.
何樹智
  • 強關聯電子材料
  • 軟X光能譜學 (XAS, XPS)
  • 硬X光能譜學 (RIXS, XES, XAS)
張羅嶽
  • X光吸收光譜
  • X光光電子能譜
  • 表面科學
莊子弘
  • 低維物理及表面磁學
  • 電子能譜學
  • 自旋電子學
許紘瑋
  • 表面科學
  • 分子束磊晶與半導體異質界面研究
  • 同步輻射顯微術
陳錦明
  • 規劃TPS 35A and 47A beamline and endstation
劉柏宏
  • 近室壓光電子能譜術(APXPS)與吸收光譜術(XAS)，應用於表面科學、催化現象與固/液介面臨場實驗
成尚鴻
  • 導電複合碳材料薄膜合成
  • 化學氣相沉積
  • TLS BL24A運轉維護
* 為主管